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掺V和Ag的TiAl合金中缺陷和电子密度的正电子湮没研究

邓文 , 祝莹莹 , 周银娥 , 黄宇阳 , 曹名洲 , 熊良钺

稀有金属材料与工程

测量了Ti50Al50,Ti50Al48V2,Ti50Al48Ag2合金和充分退火的Ti,Al,Ag,V金属的正电子寿命谱,利用正电子寿命参数分别计算了合金基体和缺陷态的自由电子密度.TiAl合金的脆性与其基体和晶界缺陷处的自由电子密度较低有关.在富Ti的TiAl合金中加入V,V原子比Al和Ti原子能提供较多的自由电子参与形成金属键,因而提高了合金基体和晶界缺陷处的自由电子密度;在TiAl合金中加入Ag也有类似的效应.在TiAl合金中加入V和Ag,有利于提高合金的韧性.

关键词: TiAl合金 , 电子密度 , 缺陷 , 正电子湮没

铱与铜、硅、金的微观性质第一性原理计算

吕连灏 , 陈敬超 , 王鹏

贵金属

采用基于密度泛函理论的第一性原理方法对铱、铜、硅、金的力学性质、电子结构等进行了计算分析。铱的塑性和非金属硅非常相似,和同为 fcc 结构的铜和金相差很大。计算了铱低指数晶面的派纳力和其电子密度分布,铱的电子结构复杂,存在各向异性,以致不同晶面派纳力差别很大,容易造成位错塞积。金和铜的电子云分布均匀,而铱和硅的电子云极化严重,这使得其塑性变形非常困难。

关键词: 金属材料 , , 机械性能 , 电子密度 , 派纳力

TiO2和CuO掺杂对ZnO导电陶瓷中电子密度和电阻率的影响

韩丽芳 , 王昊 , 徐守磊 , 陈玉辉 , 雷镇全 , 邓文

材料导报

测量了ZnO-TiO2和ZnO-CuO导电陶瓷的正电子寿命谱及其电阻率,研究了TiO2和CuO掺杂对ZnO陶瓷中电子密度和电阻率的影响.结果表明:在ZnO中加入少量的TiO2,随着ZnO陶瓷中TiO2含量的增加,样品中的自由电子密度升高,电阻率降低;在ZnO中加入少量的CuO,随着ZnO陶瓷中CuO含量的增加,样品中的自由电子密度降低,电阻率升高.

关键词: ZnO导电陶瓷 , TiO2掺杂 , CuO掺杂 , 电子密度 , 电阻率

近等原子比NiTi合金中微观缺陷和电子密度的正电子湮没研究

胡益丰 , 邓文

稀有金属材料与工程

用正电子寿命谱测量方法研究了5种不同化学成分的近等原子比NiTi合金中的微观缺陷和自由电子密度.结果表明,当Ni原子和Ti原子形成NiTi合金时部分3d电子被局域化而形成共价键,导致合金中参与形成金属键的自由电子减少.近等原子比的NiTi合金中的基体和缺陷处的自由电子浓度均随Ni含量的增加而改变,并且当Ni含量为51 at%时达到最大值.研究还发现Ni51Ti49合金含有最少的缺陷,从而有助于马氏体相变的发生,这可能成为Ni51Ti49合金具有最好的形状记忆效应的一个原因.

关键词: NiTi合金 , 微观缺陷 , 电子密度 , 形状记忆效应

激光诱导镍等离子体发射光谱Stark展宽和电子密度的空间分辨特性

杜传梅 , 张明旭 , 庞建勇

量子电子学报 doi:10.3969/j.issn.1007-5461.2013.03.002

在大气环境下利用脉冲Nd:YAG激光532 nm输出烧蚀Ni靶,产生了激光等离子体.在350~600 nm波长范围内测定了激光诱导等离子体中Ni原子的空间分辨发射光谱.得到了385.83 nm发射光谱线的Stark展宽及其随径向的变化特性.由发射光谱线的强度和Stark展宽计算了等离子体电子密度,并讨论了激光等离子体的空间演化特性.结果表明,在沿激光束方向上,当距离靶表面0~2.5 mm范围内变化时,谱线的Stark展宽、线移和电子密度都随距靶面距离的增大而先增大,在离靶面约1.25 mm处时达到最大值,之后随距离的进一步增大而减小;电子密度在0.1~3.0×1016 cm-3范围内变化.

关键词: 激光物理 , 激光诱导Ni等离子体空间分辨谱 , 斯塔克展宽 , 电子密度

稀土发光材料的第一性原理计算

敬小龙 , 邓莹 , 陈慧 , 蒲勇 , 彭玲玲

功能材料 doi:10.3969/j.issn.1001-9731.2016.02.004

第一性原理方法是计算材料性质的重要方法.稀土发光材料已经广泛应用于日常生活,对其原始创新要求越来越高.介绍了近期第一性原理在稀土发光材料中的研究成果,并对发展前景提出了展望.

关键词: 稀土发光材料 , 第一性原理 , 能带结构 , 电荷密度

基于电子理论的电镀薄膜内应力分析

任凤章 , 殷立涛 , 王姗姗 , 熊毅 , A.A.VOLINSKY , 田保红 , 魏世忠

中国有色金属学报(英文版) doi:10.1016/S1003-6326(16)64331-5

用电镀方法在Fe、Ni和Ag基体上沉积Cu膜,在Fe和Ag基体上沉积Ni膜,在Cu基体上沉积Ag膜,在Fe基体沉积Cr膜,以及在Ag基体上沉积Ag 膜,在Ni基体上沉积Ni膜和在Cu基体上沉积Cu膜。采用悬臂梁法原位测量了除Cr膜外其他薄膜的平均内应力。结果表明,薄膜和基体为异种材料时薄膜内界面应力很大,而为同种材料时界面应力为零。由悬臂梁的弯曲方向得到的界面应力的性质与由改进的 Thomas?Fermi?Dirac 电子理论得到的结果一致。

关键词: 金属薄膜 , 沉积 , 界面 , 内应力 , 电子密度

论固体膜形成纳米管的机理

程开甲 , 程漱玉

稀有金属材料与工程

Oliver G.Schmidt和Karl Eberl在自然杂志上发表了1个重要的发现:几乎对于任何材料的固体薄膜,一旦薄膜从基体上剥离开,几乎在任意部位都可以形成纳米管,这个试验结果可以用TFDC(托马斯-费米尔-迪拉克-程氏)电子理论来解释.

关键词: TFD(托马斯-费米尔-迪拉克) , 电子密度 , 内应力

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